Tisu Cleanroom Ultra Halus Skala Nano
Tisu Cleanroom Ultra Halus Skala Nano Weston dirancang untuk lingkungan terkendali yang menuntut pelepasan partikel rendah, daya serap yang kuat, dan kinerja pembersihan yang andal. Mereka dibuat untuk semikonduktor dan area manufaktur tingkat lanjut di mana kebersihan permukaan secara langsung mempengaruhi stabilitas proses.
Tisu ini menggabungkan serat poliester/nilon ultra-halus, struktur kain yang tidak-melar, dan pinggiran yang disegel ultrasonik untuk mendukung pembersihan yang presisi dalam kondisi ruang bersih ISO 4-5. Hasilnya adalah lap yang membantu menghilangkan kontaminasi membandel sekaligus mengurangi risiko masuknya partikel baru.
Fitur Produk Inti
Konstruksi serat mikro yang sangat-halus untuk daya serap yang lebih baik dan penghilangan partikel asing secara efisien.
01
Permukaan-kepadatan tinggi dan sangat-halus untuk membantu mengurangi pelepasan serat tingkat mikron selama-pembersihan tugas berat.
02
Kain yang tidak-melar dengan tepi yang disegel ultrasonik untuk mencegah robek dan meminimalkan pembentukan partikel.
03
Struktur mikrofiber asimetris yang menghilangkan kontaminasi membandel dengan cepat, seringkali hanya dengan air, membantu mengurangi kekhawatiran residu IPA.
04
Dibersihkan dan dikemas secara ketat untuk mendukung penggunaan{0}}kontaminasi rendah sebelum masuk ke ruang bersih.
05
Manfaat Produk
Tisu ini sangat berguna ketika tugas pembersihan melibatkan peralatan sensitif,-permukaan yang berhubungan dengan wafer, atau area yang pengendalian partikelnya lebih penting daripada kecepatan saja. Strukturnya dirancang untuk membersihkan tanpa mudah rusak di bawah tekanan.
Karena bahan ini dapat bekerja secara efektif dengan air, pengguna dapat mengurangi ketergantungan pada IPA dalam beberapa langkah pembersihan rutin. Hal ini dapat membantu dalam operasi yang mengutamakan pengendalian residu dan pengelolaan bahan kimia.
ProdukSpesifikasi
|
Barang |
Detail |
|
Nama Produk |
Tisu Cleanroom Ultra Halus Skala Nano |
|
Merek |
Weston |
|
Bahan |
Poliester/nilon ultra-serat mikro halus |
|
Struktur Kain |
Kain tenunan yang tidak-melar |
|
Tipe Tepi |
Tepi yang disegel ultrasonik |
|
Ukuran |
8x8cm |
|
Kemasan |
Dikemas secara vakum |
|
Paket Dalam |
5 buah per bungkus,-kemasan satu buah |
|
Kelas Ruang Bersih |
Cocok untuk lingkungan ISO 4-5 |
|
Penggunaan Utama |
Pembersihan ruang bersih tingkat lanjut yang luar biasa semikonduktor |
|
Node Aplikasi Khas |
Pabrik wafer yang beroperasi di bawah node proses 10 nm |
Data Uji
|
Barang Tes |
Satuan |
Standar Tes / Rentang |
Hasil |
|
Penyimpangan dimensi |
% |
±10 |
Berkualitas |
|
Penyimpangan lebar |
mm |
±3 |
Berkualitas |
|
Penyimpangan ketebalan |
mm |
±0.4 |
Berkualitas |
|
Gaya tarik, memanjang |
N·m/g |
Lebih besar dari atau sama dengan 1,5 |
Berkualitas |
|
Daya serap |
% |
75.0–90.0 |
80 |
|
Tingkat penyerapan air |
Kali |
Lebih besar dari atau sama dengan 2.0 |
Berkualitas |
|
pH |
/ |
4.0–9.0 |
7.0 |
|
Air yang bisa ditukar |
% |
Kurang dari atau sama dengan 10 |
Berkualitas |
|
Partikel debu |
Menghitung |
Lihat rinciannya di bawah |
Berkualitas |
|
Toleransi diameter |
mm |
+50 / -100 |
Berkualitas |
Kerusakan Kontrol Partikel
|
Ukuran Partikel |
Membatasi |
Hasil |
|
0,2 mm hingga 1,0 mm |
Kurang dari atau sama dengan 20 buah/m² |
Berkualitas |
|
1,0 mm hingga 2,0 mm |
Kurang dari atau sama dengan 20 buah/m² |
Berkualitas |
|
Lebih besar dari 2,0 mm |
Kurang dari atau sama dengan 1 buah/m² |
Berkualitas |
Hasil Uji Antibakteri
|
Barang Tes |
Metode |
Target |
Hasil |
Kesimpulan |
|
Tingkat antibakteri |
Metode pengocokan GB/T 20944.3-2008 |
Staphylococcus kuning emas (ATCC6538) Lebih besar dari atau sama dengan 70 |
>99 |
Efek antibakteri dikonfirmasi |
|
Tingkat antibakteri |
Metode pengocokan GB/T 20944.3-2008 |
E. coli (8099) Lebih besar atau sama dengan 70 |
99 |
Efek antibakteri dikonfirmasi |
|
Tingkat antibakteri |
Metode pengocokan GB/T 20944.3-2008 |
Candida putih (ATCC10231) Lebih besar dari atau sama dengan 60 |
97 |
Efek antibakteri dikonfirmasi |
Skenario Aplikasi
Tisu ini terutama digunakan di ruang bersih FAB semikonduktor, terutama di zona produksi ISO 4-5. Produk ini merupakan pilihan praktis untuk area di mana pelepasan partikel, residu, dan integritas permukaan harus dikontrol pada saat yang bersamaan.
Penggunaan umum meliputi:
- Penyekaan peralatan wafer sebelum dan sesudah pemeliharaan.
- Pembersihan alat dan perlengkapan di-area proses dengan partikel rendah.
- Pembersihan permukaan di sekitar ruang proses sensitif dan zona transfer.
- Tugas pembersihan presisi yang mengutamakan penggunaan-penghapusan berbahan dasar air.
- Penghapusan kontaminasi rutin di lingkungan produksi node sub-10 nm.
Contoh Kasus Penggunaan
Di pabrik semikonduktor, staf pemeliharaan dapat menggunakan tisu ini untuk membersihkan permukaan mesin setelah pekerjaan servis. Struktur lap membantu menghilangkan residu berminyak dan kontaminasi halus tanpa mudah melepaskan serat ke area kerja.
Dalam contoh lain, operator ruang bersih dapat menggunakan-tisu yang dibasahi air untuk membersihkan permukaan rumah alat dengan cepat. Hal ini dapat mengurangi kebutuhan penggunaan IPA berulang-ulang sambil tetap mendukung pengendalian partikel.
Pertanyaan yang Sering Diajukan
Tag populer: tisu kamar bersih ultra halus skala nano, produsen, pemasok, pabrik tisu kamar bersih ultra halus skala nano, Tisu Pembersih Ruang Bersih Kelas 100, lap pembersih ruang bersih, Lap Ruang Bersih Kelas ISO 5 8, Tisu Pembersih Ruang Bersih Serat Logam, Tisu Pembersih Ruang Bersih Ultra Halus Skala Nano, Lap Pembersih Ruang Bersih Poliester
